通過電鍍獲得納米晶體涂層的概念與通過電沉積產(chǎn)生納米晶體材料的概念不同。制造納米材料所需的廢料是一種數(shù)據(jù)，與基材的關系不大，而納米電鍍膜是一種具有納米材料特性的新型涂層。

控制電鍍工藝參數(shù)以在日常電鍍工藝中獲得納米晶涂層在技術上是可行的，但是在實踐中是困難的。在基體鍍液中添加納米粒子是獲得納米復合涂層的重要且繁瑣的方法。因此，我們知道有兩種方法可以直接電鍍納米膜層，并通過將納米添加劑分散在電鍍液中來獲得包含納米顆粒的復合涂層。目前，納米電鍍技術主要是復合電鍍技術。這種技術的應用將導致電鍍處理的反射性。